近日，一種新型“3米長光柵復(fù)制光刻機”在中科院光電技術(shù)所研制成功。這是該所繼成功研發(fā)URE-2000系列大面積曝光機后創(chuàng)新研發(fā)的一項新型精密光刻設(shè)備。該機在母尺和工件間抽真空，采用蠅眼透鏡的i線均勻照明系統(tǒng)，結(jié)合氣浮工件臺一維運動而實現(xiàn)大行程的掃描、真空接觸、i線曝光。其照明均勻性為±2%，光刻分辨力優(yōu)于5微米，照明面功率密度50mW/cm2，照明面積28mm×32mm；工件臺勻速掃描行程大于3300mm，且掃描速度可在1mm-30mm/s范圍任意調(diào)整與設(shè)定；整機實現(xiàn)計算機控制管理，液晶顯示，中文界面，操作簡便。該機衍射效應(yīng)平滑、均勻照明、光源準直、真空接觸、整機集成等頗具創(chuàng)意，具有精度高、可靠性好、自動、高效等特點，可廣泛應(yīng)用于高精度長光柵等長尺寸器件微細加工與生產(chǎn)。