三維納米結(jié)構(gòu)的制造對(duì)于傳感器、燃料電池中電極、催化劑載體、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等很多領(lǐng)域都十分重要。目前制造三維納米結(jié)構(gòu)的方法主要有膠體自組裝、高分子相分離、控制化學(xué)刻蝕等方法。雖然不同的技術(shù)對(duì)于生產(chǎn)特定的3D結(jié)構(gòu)是非常重要的，但是無人能提供一個(gè)全面的解決方案來制造三維納米結(jié)構(gòu)，這是由于各方法存在不同缺點(diǎn)，如形態(tài)中有限的適應(yīng)性、狹窄的應(yīng)用領(lǐng)域、復(fù)雜的實(shí)驗(yàn)裝置等。
 
      最近，美國伊利諾斯大學(xué)的Shir等人開發(fā)了一種全新的三維納米制造技術(shù)用以避免以上問題的發(fā)生。此項(xiàng)技術(shù)是將柔軟、具有彈性的亞波長掩模以幾何學(xué)上的等角方式與一定厚度且透明的光敏材料相接觸，然后進(jìn)行單、多光子曝光實(shí)現(xiàn)的，這種方法被稱之為鄰近納米模版法（PnP）。其典型工藝為將透明的感光固體薄膜固定到感光底層之上，然后把彈性體掩模置于薄膜之上，并在原子尺度上進(jìn)行緊密的等角接觸，透過光通過掩模在光敏薄膜內(nèi)部產(chǎn)生了復(fù)雜的光強(qiáng)分布，最后將光敏材料洗掉，從而得到了三維納米結(jié)構(gòu)。
 
      相關(guān)論文發(fā)表在《物理化學(xué)B輯》（The Journal of Physical Chemistry B）上。