近日，熱電集團(tuán)發(fā)布了一款全新的材料表征儀器??K-Alpha。K-Alpha采用了當(dāng)今飛速發(fā)展的X射線(xiàn)光電子能譜（XPS）技術(shù)，可對(duì)固體材料、絕緣體、半導(dǎo)體以及金屬材料表面向下幾納米厚度區(qū)域的化學(xué)組成進(jìn)行定量分析，分析簡(jiǎn)便、可靠，并且完全自動(dòng)化。這一具有創(chuàng)新性的系統(tǒng)是專(zhuān)為高通量樣品分析設(shè)計(jì)的，它集成了獨(dú)特的數(shù)據(jù)處理運(yùn)算法則，可提供全自動(dòng)化的數(shù)據(jù)采集、分析和報(bào)告。該產(chǎn)品將在“Microscopy and Microanalysis 2006”上向外界展出。 該儀器革命性的電子光學(xué)設(shè)計(jì)使其具有極高的靈敏度，從而可以完成對(duì)于極其復(fù)雜材料表面的化學(xué)分析，既可應(yīng)用于傳統(tǒng)材料，也可應(yīng)用在目前正在興起的生物科技、納米科技和制藥工業(yè)等領(lǐng)域。K-Alpha的小斑點(diǎn)特性（small spot）以及它的高靈敏度可實(shí)現(xiàn)快速化學(xué)狀態(tài)成像。它的整體式離子源使系統(tǒng)具備高分辨率的深度剖析能力，從而實(shí)現(xiàn)了真正的三維分析。緊湊的外觀設(shè)計(jì)和系統(tǒng)內(nèi)置的校正功能使K-Alpha成為一款低成本、高性能的表面化學(xué)分析工具。